■ 研究室
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■ 学位
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■ 研究概要
自然界に存在しない「新奇物質」を、活性プラズマ合成法、微細構造制御法などの先端技術を用いて創成し、構造や物性の評価を行う。また、コンピュータを利用した物性予測や、その場診断法による新奇物質創成メカニズムの解明に関する研究にも取り組む。さらに、環境材料、電子材料、構造材料なと、広い視野で工業的応用の道を探索する。
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■ 専門分野
無機材料、物性, 薄膜、表面界面物性, プラズマ科学, 環境材料、リサイクル技術 (キーワード:機能性材料、放電プラズマ、ナノテクノロジー)
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■ メールアドレス
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■ 所属学会
1.
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2013/10~
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日本材料科科学会
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2.
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2014/11~
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∟ 編集委員
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3.
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2016/04~2017/04
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∟ 評議員
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4.
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2017/04~
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∟ 理事
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5.
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2011/01
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日本鉄鋼協会
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6.
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2008/04~
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日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会
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7.
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2008/04~2014/03
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∟ 庶務幹事
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8.
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2004/04~
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日本真空学会
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9.
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2004/04~2008/03
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∟ SP部会幹事
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10.
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2008/04~2010/03
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∟ SP部会副部会長
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11.
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2010/04~2014/03
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∟ SP部会長
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12.
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2012/04~2014/03
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∟ 理事
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13.
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2001/08~
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日本MRS
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14.
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1995/02~
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応用物理学会
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15.
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2009/04~2011/03
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∟ 編集委員
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16.
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2015/04~2016/03
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∟ プラズマエレクトロニクス分科会幹事
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17.
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1994/04~
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日本金属学会
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18.
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1993/07~
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表面技術協会
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19.
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2010/04~2016/03
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∟ 編集委員
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20.
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2017/04
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∟ 会計幹事
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21.
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2017/04~
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∟ 理事
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5件表示
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■ 著書・論文・作品
1.
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著書
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プラズマ発光分光法によるプロセス診断 ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用 70-89頁 (共著) 2016/12
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2.
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著書
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真空およびプラズマ ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 24-51頁 (共著) 2013/05
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3.
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著書
|
吸着誘起型エレクトロクロミック現象 光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御 780-785頁 (共著) 2013
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4.
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著書
|
高分子の相分離を利用した撥水薄膜の作製 ぬれと(超)撥水、(超)親水技術、そのコントロール 170-176頁 (共著) 2007/07
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5.
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論文
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吸着誘起型エレクトロクロミック現象における色変化と表面積の定量的評価 日本材料科学会誌“材料の科学と工学” 54(6),205-210頁 (共著) 2017/12
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6.
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論文
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Influence of Substrate Materials on Deposition of Plasma-polymerized SiO:CH Particles Journal of Photopolymer Science and Technology 30(3),pp.337-340 (共著) 2017/08
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7.
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論文
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スパッタリングによる化合物薄膜作製 ケミカルエンジニヤリング 61(10),770-776頁 (単著) 2016/10
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8.
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論文
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微絨毛構造化InN薄膜のエレクトロクロミック色変化繰返し耐久性 表面技術 67(7),370-374頁 (共著) 2016/07
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9.
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論文
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窒化インジウム薄膜の非水溶媒中のエレクトロクロミック現象 電子情報通信学会技術研究報告 115(389),7-10頁 (共著) 2016/01
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10.
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論文
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A Study on Electron Impact Dissociative Ionization of Organosilicon Precursors for Plasma Processing Journal of Nanoscience and Nanotechnology 14(12),pp.9653-9656 (共著) 2014/12
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11.
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論文
|
吸着誘起型エレクトロクロミズムにおけるメゾスコピック構造の影響 材料の科学と工学 51(4),130-133頁 (共著) 2014/08
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12.
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論文
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環境配慮型高機能性薄膜材料の作製 千葉工業大学研究報告理工編 61,17-24頁 (共著) 2014/01
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13.
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論文
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小腸絨毛構造に学ぶ形態制御エレクトロクロミック薄膜 材料の科学と工学 49(4),162-165頁 (共著) 2012/08
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14.
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論文
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極微量核燃料関連元素検出法の開発 MRS-J NEWS 23(4),4-6頁 (単著) 2011/11
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15.
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論文
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Electrochromic phenomenon in indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering Thin Solid Films 518(21),pp.S6-S9 (共著) 2010/08
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16.
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論文
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プラズマ環境における動的斜め堆積法 表面技術 61(2),209頁 (共著) 2010/02
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17.
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論文
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Electrochromic Properties of InN:Sn Films Deposited by Reactive Evaporation Thin Solid Films 518(3),pp.1001-1005 (共著) 2009/12
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18.
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論文
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斜め堆積によりナノ構造制御したInNエレクトロクロミック膜 真空ジャーナル (127),5-9頁 (共著) 2009/11
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19.
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論文
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環境・経済・社会・ヒューマンファクターにかかわる評価指標に関する研究 環境科学会誌 22(4),281-289頁 (共著) 2009/08
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20.
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論文
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反応性プラズマ中の斜め堆積による微絨毛構造状窒化物薄膜の形成 真空 52(4),191-196頁 (共著) 2009/04
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21.
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論文
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Influence of Ar gas flow rate in organosilicon plasma for the fabrication of SiO:CH thin films by PECVD method Surface and Coatings Technology 202,pp.5259-5261 (共著) 2008/08
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22.
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論文
|
Radio frequency power dependence in formation of SiO:CH thin films by plasma-enhanced chemical vapor deposition Japanese Journal of Applied Physics 46(11),pp.7460-7464 (共著) 2007/11
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23.
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論文
|
Behavior of Various Organosilicon Molecules in PECVD Processes for Hydrocarbon-doped Silicon Oxide Films Solid State Phenomena 124-126,pp.347-350 (共著) 2007/06
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24.
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論文
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Biomimetic Improvement of Electrochromic Properties of Indium Nitride Journal of the Electrochemical Society 154(7),pp.J212-J216 (共著) 2007/05
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25.
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論文
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PECVD法による超はっ水薄膜の作製とその形成過程の観察 表面技術 58(5),307-311頁 (共著) 2007/05
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26.
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論文
|
Patterned hydrophobic-hydrophilic templates made from microwave-plasma enhanced chemical vapor deposited thin films Thin Solid Films 515(9),pp.4203-4208 (共著) 2007/03
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27.
|
論文
|
Fabrication and characterization of ultra-water-repellent alumina-silica composite films Journal of Physics D: Applied Physics 40(1),pp.192-197 (共著) 2007/01
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28.
|
論文
|
Water droplets interaction with super-hydrophobic surfaces Surface Science 600(18),pp.3710-3714 (共著) 2006/09
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29.
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論文
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斜め堆積スパッタ法により作製したInN薄膜のエレクトロクロミック現象の応答特性 表面技術 57(6),459-460頁 (共著) 2006/06
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30.
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論文
|
バイオミメティックプロセシングを用いた材料創製 応用物理 75(2),196-201頁 (共著) 2006/02
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31.
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論文
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バイオミメティックナノテクノロジー 表面技術 56(12),775-779頁 (共著) 2005/12
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32.
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論文
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Ultrahydrophobic/ultrahydrophilic micropatterning on a polymeric substrate Chemical Vapor Deposition 11(8-9),pp.347-349 (共著) 2005/09
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33.
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論文
|
二段階プラズマプロセスによる超はっ水高分子基板の作製 表面技術 56(9),524-527頁 (共著) 2005/09
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34.
|
論文
|
バイオミメティック超親水・超はっ水性薄膜 表面技術 56(7),379-384頁 (共著) 2005/07
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35.
|
論文
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Transparent ultra water-repellent poly(ethylene terephthalate) substrates fabricated by oxygen plasma treatment and subsequent hydrophobic coating Applied Surface Science 244(1-4),pp.619-622 (共著) 2005/05
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36.
|
論文
|
Amorphous carbon and carbon nitride multilayered films prepared by shielded arc ion plating Thin Solid Films 475(1-2),pp.308-312 (共著) 2005/03
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37.
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論文
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Wettability of poly(ethylene terephthalate) substrates modified by a two-step plasma process: Ultra water-repellent surface fabrication Chemical Vapor Deposition 10(6),pp.295-297 (共著) 2004/12
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38.
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論文
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Organosilane self-assembled monolayers directly linked to the diamond surfaces Journal of Vacuum Science and Technology 22,pp.2005-2009 (共著) 2004/09
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39.
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論文
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Contribution of Primary Chemical Bonding States of Amorphous Carbon Nitride to Hardness Electrochemical and Solid-State Latters 7(8),pp.C84-C86 (共著) 2004/08
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40.
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論文
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Mechanical durability of ultra-water-repellent thin film by microwave plasma-enhanced CVD Thin Solid Films 457(1),pp.122-127 (共著) 2004/06
|
41.
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論文
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UV Raman Spectroscopic Probing into Nitrogen-doped Hydrogenated Amorphous Carbon Thin Solid Films 457(1),pp.128-132 (共著) 2004/06
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42.
|
論文
|
Dependence of hybridizations analyzed by XPS and visible Raman spectroscopy on nanohardness and wear resistance of amorphous carbon carbon nitride films Diamond Rel. Mater. 13,pp.507-512 (共著) 2004
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43.
|
論文
|
Characteristics and high water-repellency of a-C : H films deposited by r.f. PECVD Surf. Coat. Technol. 162(2-3),pp.135-139 (共著) 2003
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44.
|
論文
|
Correlation between wear-resistance and chemical structure of CNx films synthesized by shielded arc ion plating Surf. Coat. Technol. 169,pp.336-339 (共著) 2003
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45.
|
論文
|
Gas barrier performance of surface-modified silica films with grafted organosilane molecules Langmuir 19(20),pp.8331-8334 (共著) 2003
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46.
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論文
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Nano- and Micro-tribological Characteristics of Amorphous Carbon Films Prepared by Shielded Arc Ion Plating Thin Solid Films 435(1-2),pp.150-153 (共著) 2003
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47.
|
論文
|
Nanotextures fabricated by microwave plasma CVD: application to ultra water-repellent surface Surf. Coat. Technol. 174,pp.867-871 (共著) 2003
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48.
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論文
|
Origin of N 1s spectrum in amorphous carbon nitride obtained by X-ray photoelectron spectroscopy Thin Solid Films 434(1-2),pp.296-302 (共著) 2003
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49.
|
論文
|
Preparation of hard and ultra water-repellent silicon oxide films by microwave plasma-enhanced CVD at low substrate temperatures Thin Solid Films 435(1-2),pp.161-164 (共著) 2003
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50.
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論文
|
Synthesis of silica films on a polymeric material by plasma-enhanced CVD using tetramethoxysilane Surf. Coat. Technol. 169,pp.583-586 (共著) 2003
|
51.
|
論文
|
Ultra-water-repellent poly(ethylene terephthalate) substrates Langmuir 19(25),pp.10624-10627 (共著) 2003
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52.
|
論文
|
ポリエチレンテレフタレート基板上でのプラズマCVDシリカ膜の成長様式 表面技術 54(10),698-703頁 (共著) 2003
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53.
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論文
|
非経験的分子軌道法支援によるアモルファス窒化炭素膜の化学結合状態:X線光電子分光スペクトルの解釈 表面技術 54(11),769-775頁 (共著) 2003
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54.
|
論文
|
Characteristics of ultra water-repellent thin films prepared by combined process of microwave plasma-enhanced CVD and oxygen-plasma treatment Thin Solid Films 407(1-2),pp.45-49 (共著) 2002
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55.
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論文
|
Gas barrier properties of silicon oxide films prepared by plasma-enhanced CVD using tetramethoxysilane Vacuum 66(3-4),pp.353-357 (共著) 2002
|
56.
|
論文
|
Growth and structure of silica films deposited on a polymeric material by plasma-enhanced chemical vapor deposition Thin Solid Films 420,pp.324-329 (共著) 2002
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57.
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論文
|
Magnesium plasma immersion ion implantation in a large straight magnetic duct Plasma Sources Sci. Technol. 11(3),pp.317-323 (共著) 2002
|
58.
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論文
|
Thin films with nanotextures for transparent and ultra water-repellent coatings produced from trimethylmethoxysilane by microwave plasma CVD Chem. Vapor Depos. 8(2),pp.47-50 (共著) 2002
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59.
|
論文
|
Transparent silica films deposited by low-temperature plasma-enhanced CVD using hexamethyldisiloxane Chemical Vapor Deposition 8(6),pp.251-253 (共著) 2002
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60.
|
論文
|
In situ surface analysis by infrared reflection absorption spectroscopy in PECVD of silicon-oxide films Thin Solid Films 386(2),pp.252-255 (共著) 2001
|
61.
|
論文
|
Reduction of carbon impurities in silicon oxide films prepared by RF plasma-enhanced CVD Thin Solid Films 390(1-2),pp.88-92 (共著) 2001
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62.
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論文
|
Room-temperature deposition of high-purity silicon oxide films by RF plasma-enhanced CVD Surf. Coat. Technol. 146,pp.451-456 (共著) 2001
|
63.
|
論文
|
Electrochromic Reaction of InN Thin Films J. Electrochem.Soc. 146(6),pp.2365-2369 (共著) 1999
|
64.
|
論文
|
In situ Observation of Behavior of Organosilicon Molecules in Low-temperature Plasma Enhanced CVD Thin Solid Films 345(1),pp.90-93 (共著) 1999
|
65.
|
論文
|
Properties of Silicon Oxide Films Deposited by Plasma-enhanced CVD Using Organosilicon Reactants and Mass Analysis in Plasma Thin Solid Films 341(1-2),pp.47-51 (共著) 1999
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66.
|
論文
|
Growth and Nanostructure of InN Thin Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering Thin Solid Films 318(1-2),pp.148-150 (共著) 1998
|
67.
|
論文
|
Mass Spectroscopy in Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon-oxide Films Using Tetramethoxysilane Thin Solid Films 316(1-2),pp.79-84 (共著) 1998
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68.
|
論文
|
Optical and Electrical Properties of InN Thin Films Grown on ZnO/a-Al2O3 by RF Reactive Magnetron Sputtering Thin Solid Films 334(1-2),pp.49-53 (共著) 1998
|
69.
|
論文
|
Physical Prooperties of Reactive Sputtered Tin-Nitride Thin Films Vacuum 51(4),pp.673-676 (共著) 1998
|
70.
|
論文
|
Structural and Electrochromic Properties of InN Thin Films Thin Solid Films 332(1-2),pp.267-271 (共著) 1998
|
71.
|
論文
|
Synthesis of Sn-doped a-C:H Films by RF Plasma-enhanced CVD and Their Characterization Thin Solid Films 322(1-2),pp.41-45 (共著) 1998
|
72.
|
論文
|
Spectroscopic Studies on Preparation of Silicon Oxide Films by PECVD Using Organosilicon Compounds Plasma Sources Sci. Technol. 5(2),pp.339-343 (共著) 1996
|
73.
|
論文
|
Computer Simulations on the Electrical Resistivities of Metallic Superlattice based on Simple Model J. Mag. Mag. Matt. 126,pp.475-478 (共著) 1993
|
74.
|
論文
|
Fundamental Processes of the Epitaxial Growth of Silver and Gold Films Appl. Surf. Sci. 60/61,pp.667-671 (共著) 1992
|
5件表示
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全件表示(74件)
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■ 研究題目
1. |
2020/04~2023/03
|
反応性プラズマ環境下の斜入射堆積法によるナノ構造化薄膜堆積技術の確立 基盤研究(C)
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2. |
2010/04~2013/03
|
バイオミメティック超高速・高効率エレクトロクロミック薄膜の高耐久化 基盤研究(B)
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■ ホームページ
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■ 委員会・協会等
1. |
2017/04~ |
日本材料科科学 理事
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2. |
2017/04~ |
表面技術協会 理事
|
3. |
2017/04~ |
表面技術協会 会計幹事
|
4. |
2016/04~2017/04 |
日本材料科科学会 評議員
|
5. |
2015/04~2016/03 |
応用物理学会 プラズマエレクトロニクス分科会幹
|
6. |
2014/11~ |
日本材料科科学会 編集委員
|
7. |
2012/04~2014/03 |
日本真空学会 理事
|
8. |
2010/04~2014/03 |
日本真空学会 スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会長
|
9. |
2010/04~2016/03 |
表面技術協会 編集委員
|
10. |
2010/04~2016/03 |
表面技術協会 編集委員
|
11. |
2009/04~2011/03 |
応用物理学会 編集委員
|
12. |
2008/04~2014/03 |
日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会 庶務幹事
|
13. |
2008/04~2010/03 |
日本真空学会 SP部会副部会長
|
14. |
2004/04~2008/03 |
日本真空学会 幹事
|
5件表示
|
全件表示(14件)
|
|