教員情報 - 井上　泰志 | 千葉工業大学

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（最終更新日：2023-05-25 09:41:13）

  イノウエ　ヤスシ   INOUE Yasushi
  井上　泰志
   所属   千葉工業大学工学部先端材料工学科

千葉工業大学工学研究科工学専攻

千葉工業大学工学研究科先端材料工学専攻

職種教授

■ 学位

名古屋大学博士課程修了博士（工学）

■ 研究概要

自然界に存在しない「新奇物質」を、活性プラズマ合成法、微細構造制御法などの先端技術を用いて創成し、構造や物性の評価を行う。また、コンピュータを利用した物性予測や、その場診断法による新奇物質創成メカニズムの解明に関する研究にも取り組む。さらに、環境材料、電子材料、構造材料なと、広い視野で工業的応用の道を探索する。

■ 専門分野

無機材料、物性, 薄膜、表面界面物性, プラズマ科学, 環境材料、リサイクル技術　（キーワード：機能性材料、放電プラズマ、ナノテクノロジー）

■ メールアドレス

■ 所属学会

1.	2013/10～	日本材料科科学会
2.	2014/11～	∟ 編集委員
3.	2016/04～2017/04	∟ 評議員
4.	2017/04～	∟ 理事
5.	2011/01	日本鉄鋼協会
6.	2008/04～	日本学術振興会プラズマ材料科学第１５３委員会
7.	2008/04～2014/03	∟ 庶務幹事
8.	2004/04～	日本真空学会
9.	2004/04～2008/03	∟ SP部会幹事
10.	2008/04～2010/03	∟ SP部会副部会長
11.	2010/04～2014/03	∟ SP部会長
12.	2012/04～2014/03	∟ 理事
13.	2001/08～	日本MRS
14.	1995/02～	応用物理学会
15.	2009/04～2011/03	∟ 編集委員
16.	2015/04～2016/03	∟ プラズマエレクトロニクス分科会幹事
17.	1994/04～	日本金属学会
18.	1993/07～	表面技術協会
19.	2010/04～2016/03	∟ 編集委員
20.	2017/04	∟ 会計幹事
21.	2017/04～	∟ 理事
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■ 著書・論文・作品

1.	著書	プラズマ発光分光法によるプロセス診断ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の応用 70-89頁（共著） 2016/12
2.	著書	真空およびプラズマドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎 24-51頁（共著） 2013/05
3.	著書	吸着誘起型エレクトロクロミック現象光学薄膜の最適設計・成膜技術と膜厚・膜質・光学特性の制御 780-785頁（共著） 2013
4.	著書	高分子の相分離を利用した撥水薄膜の作製ぬれと(超)撥水、(超)親水技術、そのコントロール 170-176頁（共著） 2007/07
5.	論文	吸着誘起型エレクトロクロミック現象における色変化と表面積の定量的評価日本材料科学会誌“材料の科学と工学” 54(6),205-210頁（共著） 2017/12
6.	論文	Influence of Substrate Materials on Deposition of Plasma-polymerized SiO:CH Particles Journal of Photopolymer Science and Technology 30(3),pp.337-340 （共著） 2017/08
7.	論文	スパッタリングによる化合物薄膜作製ケミカルエンジニヤリング 61(10),770-776頁（単著） 2016/10
8.	論文	微絨毛構造化InN薄膜のエレクトロクロミック色変化繰返し耐久性表面技術 67(7),370-374頁（共著） 2016/07
9.	論文	窒化インジウム薄膜の非水溶媒中のエレクトロクロミック現象電子情報通信学会技術研究報告 115(389),7-10頁（共著） 2016/01
10.	論文	A Study on Electron Impact Dissociative Ionization of Organosilicon Precursors for Plasma Processing Journal of Nanoscience and Nanotechnology 14(12),pp.9653-9656 （共著） 2014/12
11.	論文	吸着誘起型エレクトロクロミズムにおけるメゾスコピック構造の影響材料の科学と工学 51(4),130-133頁（共著） 2014/08
12.	論文	環境配慮型高機能性薄膜材料の作製千葉工業大学研究報告理工編 61,17-24頁（共著） 2014/01
13.	論文	小腸絨毛構造に学ぶ形態制御エレクトロクロミック薄膜材料の科学と工学 49(4),162-165頁（共著） 2012/08
14.	論文	極微量核燃料関連元素検出法の開発 MRS-J NEWS 23(4),4-6頁（単著） 2011/11
15.	論文	Electrochromic phenomenon in indium-tin oxide thin films deposited by RF magnetron sputtering Thin Solid Films 518(21),pp.S6-S9 （共著） 2010/08
16.	論文	プラズマ環境における動的斜め堆積法表面技術 61(2),209頁（共著） 2010/02
17.	論文	Electrochromic Properties of InN:Sn Films Deposited by Reactive Evaporation Thin Solid Films 518(3),pp.1001-1005 （共著） 2009/12
18.	論文	斜め堆積によりナノ構造制御したInNエレクトロクロミック膜真空ジャーナル (127),5-9頁（共著） 2009/11
19.	論文	環境・経済・社会・ヒューマンファクターにかかわる評価指標に関する研究環境科学会誌 22(4),281-289頁（共著） 2009/08
20.	論文	反応性プラズマ中の斜め堆積による微絨毛構造状窒化物薄膜の形成真空 52(4),191-196頁（共著） 2009/04
21.	論文	Influence of Ar gas flow rate in organosilicon plasma for the fabrication of SiO:CH thin films by PECVD method Surface and Coatings Technology 202,pp.5259-5261 （共著） 2008/08
22.	論文	Radio frequency power dependence in formation of SiO:CH thin films by plasma-enhanced chemical vapor deposition Japanese Journal of Applied Physics 46(11),pp.7460-7464 （共著） 2007/11
23.	論文	Behavior of Various Organosilicon Molecules in PECVD Processes for Hydrocarbon-doped Silicon Oxide Films Solid State Phenomena 124-126,pp.347-350 （共著） 2007/06
24.	論文	Biomimetic Improvement of Electrochromic Properties of Indium Nitride Journal of the Electrochemical Society 154(7),pp.J212-J216 （共著） 2007/05
25.	論文	PECVD法による超はっ水薄膜の作製とその形成過程の観察表面技術 58(5),307-311頁（共著） 2007/05
26.	論文	Patterned hydrophobic-hydrophilic templates made from microwave-plasma enhanced chemical vapor deposited thin films Thin Solid Films 515(9),pp.4203-4208 （共著） 2007/03
27.	論文	Fabrication and characterization of ultra-water-repellent alumina-silica composite films Journal of Physics D: Applied Physics 40(1),pp.192-197 （共著） 2007/01
28.	論文	Water droplets interaction with super-hydrophobic surfaces Surface Science 600(18),pp.3710-3714 （共著） 2006/09
29.	論文	斜め堆積スパッタ法により作製したInN薄膜のエレクトロクロミック現象の応答特性表面技術 57(6),459-460頁（共著） 2006/06
30.	論文	バイオミメティックプロセシングを用いた材料創製応用物理 75(2),196-201頁（共著） 2006/02
31.	論文	バイオミメティックナノテクノロジー表面技術 56(12),775-779頁（共著） 2005/12
32.	論文	Ultrahydrophobic/ultrahydrophilic micropatterning on a polymeric substrate Chemical Vapor Deposition 11(8-9),pp.347-349 （共著） 2005/09
33.	論文	二段階プラズマプロセスによる超はっ水高分子基板の作製表面技術 56(9),524-527頁（共著） 2005/09
34.	論文	バイオミメティック超親水・超はっ水性薄膜表面技術 56(7),379-384頁（共著） 2005/07
35.	論文	Transparent ultra water-repellent poly(ethylene terephthalate) substrates fabricated by oxygen plasma treatment and subsequent hydrophobic coating Applied Surface Science 244(1-4),pp.619-622 （共著） 2005/05
36.	論文	Amorphous carbon and carbon nitride multilayered films prepared by shielded arc ion plating Thin Solid Films 475(1-2),pp.308-312 （共著） 2005/03
37.	論文	Wettability of poly(ethylene terephthalate) substrates modified by a two-step plasma process: Ultra water-repellent surface fabrication Chemical Vapor Deposition 10(6),pp.295-297 （共著） 2004/12
38.	論文	Organosilane self-assembled monolayers directly linked to the diamond surfaces Journal of Vacuum Science and Technology 22,pp.2005-2009 （共著） 2004/09
39.	論文	Contribution of Primary Chemical Bonding States of Amorphous Carbon Nitride to Hardness Electrochemical and Solid-State Latters 7(8),pp.C84-C86 （共著） 2004/08
40.	論文	Mechanical durability of ultra-water-repellent thin film by microwave plasma-enhanced CVD Thin Solid Films 457(1),pp.122-127 （共著） 2004/06
41.	論文	UV Raman Spectroscopic Probing into Nitrogen-doped Hydrogenated Amorphous Carbon Thin Solid Films 457(1),pp.128-132 （共著） 2004/06
42.	論文	Dependence of hybridizations analyzed by XPS and visible Raman spectroscopy on nanohardness and wear resistance of amorphous carbon carbon nitride films Diamond Rel. Mater. 13,pp.507-512 （共著） 2004
43.	論文	Characteristics and high water-repellency of a-C : H films deposited by r.f. PECVD Surf. Coat. Technol. 162(2-3),pp.135-139 （共著） 2003
44.	論文	Correlation between wear-resistance and chemical structure of CNx films synthesized by shielded arc ion plating Surf. Coat. Technol. 169,pp.336-339 （共著） 2003
45.	論文	Gas barrier performance of surface-modified silica films with grafted organosilane molecules Langmuir 19(20),pp.8331-8334 （共著） 2003
46.	論文	Nano- and Micro-tribological Characteristics of Amorphous Carbon Films Prepared by Shielded Arc Ion Plating Thin Solid Films 435(1-2),pp.150-153 （共著） 2003
47.	論文	Nanotextures fabricated by microwave plasma CVD: application to ultra water-repellent surface Surf. Coat. Technol. 174,pp.867-871 （共著） 2003
48.	論文	Origin of N 1s spectrum in amorphous carbon nitride obtained by X-ray photoelectron spectroscopy Thin Solid Films 434(1-2),pp.296-302 （共著） 2003
49.	論文	Preparation of hard and ultra water-repellent silicon oxide films by microwave plasma-enhanced CVD at low substrate temperatures Thin Solid Films 435(1-2),pp.161-164 （共著） 2003
50.	論文	Synthesis of silica films on a polymeric material by plasma-enhanced CVD using tetramethoxysilane Surf. Coat. Technol. 169,pp.583-586 （共著） 2003
51.	論文	Ultra-water-repellent poly(ethylene terephthalate) substrates Langmuir 19(25),pp.10624-10627 （共著） 2003
52.	論文	ポリエチレンテレフタレート基板上でのプラズマCVDシリカ膜の成長様式表面技術 54(10),698-703頁（共著） 2003
53.	論文	非経験的分子軌道法支援によるアモルファス窒化炭素膜の化学結合状態：X線光電子分光スペクトルの解釈表面技術 54(11),769-775頁（共著） 2003
54.	論文	Characteristics of ultra water-repellent thin films prepared by combined process of microwave plasma-enhanced CVD and oxygen-plasma treatment Thin Solid Films 407(1-2),pp.45-49 （共著） 2002
55.	論文	Gas barrier properties of silicon oxide films prepared by plasma-enhanced CVD using tetramethoxysilane Vacuum 66(3-4),pp.353-357 （共著） 2002
56.	論文	Growth and structure of silica films deposited on a polymeric material by plasma-enhanced chemical vapor deposition Thin Solid Films 420,pp.324-329 （共著） 2002
57.	論文	Magnesium plasma immersion ion implantation in a large straight magnetic duct Plasma Sources Sci. Technol. 11(3),pp.317-323 （共著） 2002
58.	論文	Thin films with nanotextures for transparent and ultra water-repellent coatings produced from trimethylmethoxysilane by microwave plasma CVD Chem. Vapor Depos. 8(2),pp.47-50 （共著） 2002
59.	論文	Transparent silica films deposited by low-temperature plasma-enhanced CVD using hexamethyldisiloxane Chemical Vapor Deposition 8(6),pp.251-253 （共著） 2002
60.	論文	In situ surface analysis by infrared reflection absorption spectroscopy in PECVD of silicon-oxide films Thin Solid Films 386(2),pp.252-255 （共著） 2001
61.	論文	Reduction of carbon impurities in silicon oxide films prepared by RF plasma-enhanced CVD Thin Solid Films 390(1-2),pp.88-92 （共著） 2001
62.	論文	Room-temperature deposition of high-purity silicon oxide films by RF plasma-enhanced CVD Surf. Coat. Technol. 146,pp.451-456 （共著） 2001
63.	論文	Electrochromic Reaction of InN Thin Films J. Electrochem.Soc. 146(6),pp.2365-2369 （共著） 1999
64.	論文	In situ Observation of Behavior of Organosilicon Molecules in Low-temperature Plasma Enhanced CVD Thin Solid Films 345(1),pp.90-93 （共著） 1999
65.	論文	Properties of Silicon Oxide Films Deposited by Plasma-enhanced CVD Using Organosilicon Reactants and Mass Analysis in Plasma Thin Solid Films 341(1-2),pp.47-51 （共著） 1999
66.	論文	Growth and Nanostructure of InN Thin Films Deposited by Reactive Magnetron Sputtering Thin Solid Films 318(1-2),pp.148-150 （共著） 1998
67.	論文	Mass Spectroscopy in Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition of Silicon-oxide Films Using Tetramethoxysilane Thin Solid Films 316(1-2),pp.79-84 （共著） 1998
68.	論文	Optical and Electrical Properties of InN Thin Films Grown on ZnO/a-Al2O3 by RF Reactive Magnetron Sputtering Thin Solid Films 334(1-2),pp.49-53 （共著） 1998
69.	論文	Physical Prooperties of Reactive Sputtered Tin-Nitride Thin Films Vacuum 51(4),pp.673-676 （共著） 1998
70.	論文	Structural and Electrochromic Properties of InN Thin Films Thin Solid Films 332(1-2),pp.267-271 （共著） 1998
71.	論文	Synthesis of Sn-doped a-C:H Films by RF Plasma-enhanced CVD and Their Characterization Thin Solid Films 322(1-2),pp.41-45 （共著） 1998
72.	論文	Spectroscopic Studies on Preparation of Silicon Oxide Films by PECVD Using Organosilicon Compounds Plasma Sources Sci. Technol. 5(2),pp.339-343 （共著） 1996
73.	論文	Computer Simulations on the Electrical Resistivities of Metallic Superlattice based on Simple Model J. Mag. Mag. Matt. 126,pp.475-478 （共著） 1993
74.	論文	Fundamental Processes of the Epitaxial Growth of Silver and Gold Films Appl. Surf. Sci. 60/61,pp.667-671 （共著） 1992
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■ 研究題目

1.	2020/04～2023/03	反応性プラズマ環境下の斜入射堆積法によるナノ構造化薄膜堆積技術の確立基盤研究（C）
2.	2010/04～2013/03	バイオミメティック超高速・高効率エレクトロクロミック薄膜の高耐久化基盤研究（Ｂ）

■ ホームページ

http://home.att.ne.jp/surf/isil/ys/

■ 委員会・協会等

1.	2017/04～	日本材料科科学理事
2.	2017/04～	表面技術協会理事
3.	2017/04～	表面技術協会会計幹事
4.	2016/04～2017/04	日本材料科科学会評議員
5.	2015/04～2016/03	応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会幹
6.	2014/11～	日本材料科科学会編集委員
7.	2012/04～2014/03	日本真空学会理事
8.	2010/04～2014/03	日本真空学会スパッタリング及びプラズマプロセス技術部会長
9.	2010/04～2016/03	表面技術協会編集委員
10.	2010/04～2016/03	表面技術協会編集委員
11.	2009/04～2011/03	応用物理学会編集委員
12.	2008/04～2014/03	日本学術振興会プラズマ材料科学第１５３委員会庶務幹事
13.	2008/04～2010/03	日本真空学会 SP部会副部会長
14.	2004/04～2008/03	日本真空学会幹事
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