|
タカハシ イクマ
Ikuma Takahashi
髙橋 伊久磨 所属 千葉工業大学 工学部 先端材料工学科 千葉工業大学 工学研究科 先端材料工学専攻 職種 准教授 |
|
| 言語種別 | 日本語 |
| 発行・発表の年月 | 2016/03 |
| 形態種別 | 大学・研究所等紀要 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | In situ XRDを用いた充放電中のSiO/C電極における各活物質の反応挙動解析 |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | サンビーム年報・成果集 |
| 掲載区分 | 国内 |
| 巻・号・頁 | 5,59-62頁 |
| 著者・共著者 | 高橋伊久磨, 光山知宏, 秦野正治 |