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ヒラタ アキヒコ
Hirata Akihiko
枚田 明彦 所属 千葉工業大学 工学部 情報通信システム工学科 千葉工業大学 工学研究科 工学専攻 千葉工業大学 工学研究科 情報通信システム工学専攻 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 1998/03 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 標題 | Diffusion Barrier Mechanism of Extremely Thin Tungsten Silicon Nitride formed by ECR Plasma Nitridation |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Japanese Journal of Applied Physics |
| 掲載区分 | 国内 |
| 巻・号・頁 | 37(1),pp.1251-1225 |
| 著者・共著者 | Akihiko Hirata, Katsuyuki Machida, Satoru Maeyama, Yoshio Watanabe and Hakaru Kyuragi |