|
イノウエ ヤスシ
INOUE Yasushi
井上 泰志 所属 千葉工業大学 工学部 先端材料工学科 千葉工業大学 工学研究科 工学専攻 千葉工業大学 工学研究科 先端材料工学専攻 職種 教授 |
|
| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2008/08 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Influence of Ar gas flow rate in organosilicon plasma for the fabrication of SiO:CH thin films by PECVD method |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Surface and Coatings Technology |
| 掲載区分 | 国外 |
| 出版社・発行元 | Elsevier |
| 巻・号・頁 | 202,pp.5259-5261 |
| 著者・共著者 | Yongsup Yun, Takanori Yoshida, Norifumi Shimazu, Naoki Nanba, Yasushi Inoue, Nagahiro Saito and Osamu Takai |