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ハヤシ シンイチロウ
Shin-Ichiro HAYASHI
林 真一郎 所属 千葉工業大学 工学部 電気電子工学科 職種 准教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2020/11/19 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Accelerated aging test for gate-oxide degradation in SiC MOSFETs for condition monitoring |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Microelectronics Reliability |
| 掲載区分 | 国外 |
| 出版社・発行元 | Elsevier |
| 巻・号・頁 | 114 |
| 総ページ数 | 6 |
| 担当区分 | 筆頭著者 |
| 著者・共著者 | S.-I. Hayashi, K. Wada |
| researchmap用URL | https://doi.org/10.1016/j.microrel.2020.113777 |