ハヤシ シンイチロウ
Shin-Ichiro HAYASHI
林 真一郎 所属 千葉工業大学 工学部 電気電子工学科 職種 准教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2020/11/19 |
形態種別 | 学術雑誌 |
査読 | 査読あり |
標題 | Accelerated aging test for gate-oxide degradation in SiC MOSFETs for condition monitoring |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Microelectronics Reliability |
掲載区分 | 国外 |
出版社・発行元 | Elsevier |
巻・号・頁 | 114 |
総ページ数 | 6 |
担当区分 | 筆頭著者 |
著者・共著者 | S.-I. Hayashi, K. Wada |
researchmap用URL | https://doi.org/10.1016/j.microrel.2020.113777 |