コジマ オサム
Kojima Osamu
小島 磨 所属 千葉工業大学 工学部 電気電子工学科 千葉工業大学 工学研究科 工学専攻 職種 教授 |
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言語種別 | 英語 |
発行・発表の年月 | 2010/12/08 |
形態種別 | 学術雑誌 |
標題 | Intraband relaxation process in highly stacked quantum dots |
執筆形態 | 共著 |
掲載誌名 | Physica Status Solidi C |
掲載区分 | 国外 |
出版社・発行元 | WILEY-VCH |
巻・号・頁 | 8(1),pp.46-49 |
総ページ数 | 4 |
担当区分 | 筆頭著者,責任著者 |
著者・共著者 | Osamu Kojima, Masataka Mamizuka, Takashi Kita, Osamu Wada, Kouichi Akahane |