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イノウエ ヤスシ
INOUE Yasushi
井上 泰志 所属 千葉工業大学 工学部 先端材料工学科 千葉工業大学 工学研究科 工学専攻 千葉工業大学 工学研究科 先端材料工学専攻 職種 教授 |
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| 言語種別 | 英語 |
| 発行・発表の年月 | 2001 |
| 形態種別 | 学術雑誌 |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Reduction of carbon impurities in silicon oxide films prepared by RF plasma-enhanced CVD |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Thin Solid Films |
| 巻・号・頁 | 390(1-2),pp.88-92 |
| 著者・共著者 | Katsuya Teshima, Yasushi Inoue, Hiroyuki Sugimura and Osamu Takai |